Microelectronic engineering (2004). doi:10.1016/j.mee.2004.03.067 info:cnr-pdr/source/autori:Romanato, F ; Tormen, M ; Businaro, L ; Vaccari, L ; Stomeo, T ; Passaseo, A ; Di Fabrizio, E;/titolo:X-ray lithography for 3D microfluidic applications/doi:10.1016%2Fj.mee.2004.03.067/rivista:Microelectronic engineering/anno:2004/pagina_da:/pagina_a:/intervallo_pagine:/volume