니켈산화물(NiO)은 촉매, 배터리용 전극, electrochromic박막, 가스센서와 자성재료 등에 널리 사용된다. NiO박막은 스퍼터링, 열증착, e-beam 증착, 전기화학적 증착과 화학용액(졸-겔)법 같은 공정으로 제조된다. 이러한 공정들 중에서, 화학용액 방법은 가장 값싼 제조법으로, 조성과 균질성도 우수하다는 연구 결과들도 있다. 최근, 리튬(Li)이 도핑된 NiO박막은 낮은 저항이 요구되는 광전자 장치용으로 많은 연구가 진행되고 있다. 그런데, 높은 전기 전도성을 띠는 Li이 도핑된 NiO 박막의 합성을 간단하고, 빠르게 수행하는 것은 여전히 어려운 과제이다. 본 연구는 NiO 박막에 Li를 도핑하는 기술에 대해 체계적으로 연구하고 최적화하였다. NiO박막의 형성시, Li의 도핑, 반응 시간, 반응물질의 농도와 온도의 효과에 대해 연구하였다. 특히, 다결정 NiO 박막을 졸-겔법으로 제조할 때, Li의 도핑 농도에 따른 구조적, 전기적 특성과 Li:NiO 박막의 광학 특성을 체계적으로 연구하였다. Li의 농도가 0.11 mol%인 경우, Li:NiO 박막은 여러가지 Li 도핑 조건 중에서 저항이 1.33 kΩcm으로 가장 낮게 나타났다. Li:NiO의 광투과도는 Li의 도핑 농도가 증가함에 따라 감소하였다. 또한, 실험변수로 반응온도와 반응농도를 선택해서 체계적으로 연구하였다. 균질하고 명확한 다공성 NiO nanosheets는 90 °C의 반응온도, 50 mM의 NiO hexahydrate 농도와 2시간의 반응시간의 조건에서 얻어졌다. 더욱이, NiO nanosheets의 전기화학적, 전기적 특성의 최적화된 조건은 Li 의 도핑농도가 0.06 mol%일 때 였다. Li을 도핑해서 전기적 특성의 조절은 NiO nanosheets의 경우가 NiO박막의 경우보다 용이하였으며, 전기화학적 특성도 우수하였다.