Low Schottky barrier height and high thermal stability of Co/n-Si junctions inserting WSin / WSin挿入層を用いたCo/n-Si接合の低いショットキー障壁と高い熱的安定性
- Resource Type
- Journal Article
- Source
- JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2019, :3067
- Subject
18p-E304-10 Contact Schottky Silicide Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術 コンタクト ショットキ― シリサイド 半導体 金属-半導体界面/コンタクト - Language
- Japanese
- ISSN
- 2436-7613