25nm Short and narrow strained FDSOI with TiN/HfO2 gate stack
- Resource Type
- Authors
- Andrieu, F.; Dupré, C.; Rochette, F.; Faynot, O.; Tosti, L.; Buj, C.; Rouchouze, E.; Cassé, M.; Ghyselen, B.; Cayrefourcq, I.; Brévard, L.; Allain, F.; Barbé, J. C.; Cluzel, J.; Vandooren, A.; Denorme, S.; thomas ernst; Fenouillet-Béranger, C.; Jahan, C.; Lafond, D.; Dansas, H.; Previtali, B.; Colonna, J. P.; Grampeix, H.; Gaud, P.; Mazuré, C.; Deleonibus, S.
- Source
- Scopus-Elsevier
- Subject
- Language