소장자료

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245 00 aHot carrier주입에 따른 MOS구조의 계면 Trap생성 = xStudy on relationship between trapped hole and interface state generation / d金泰炯.
260 a인천 : b인하대학교 대학원, c1990.
300 aiii, 36p. : b삽도 ; c26cm.
502 a학위논문(석사)--b仁荷大學校 大學院: c應用物理學科, d1990
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700 1 a김태형.
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950 0 a비매품
Hot carrier주입에 따른 MOS구조의 계면 Trap생성 =Study on relationship between trapped hole and interface state generation
종류
학위논문 동서
서명
Hot carrier주입에 따른 MOS구조의 계면 Trap생성 =Study on relationship between trapped hole and interface state generation
저자명
발행사항
형태사항
iii, 36p : 삽도 ; 26cm.
학위논문주기
학위논문(석사)-- 仁荷大學校 大學院: 應用物理學科, 1990

소장정보

청구기호 : 420.45 김883H
도서예약
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등록번호 청구기호 별치기호 소장위치 대출상태 반납예정일 서비스
등록번호
E0363753
청구기호
420.45 김883H
별치기호
D
소장위치
부민보존서고Ⅱ-2
대출상태
대출불가 (GUEST 로그인)
반납예정일
서비스

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