Growth of beta-FeSi2 thin films by co-sputtering with high purity Si and Fe targets / 高純度FeおよびSi単体ターゲットを用いた同時スパッタリング法によるbeta-FeSi2膜の作製
- Resource Type
- Journal Article
- Source
- JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2018, :2829
- Subject
20a-PA4-11 iron disilicide semiconducting silicides sputtering シリサイド半導体 シリサイド半導体,環境半導体 スパッタリング 半導体 探索的材料物性・基礎物性 鉄シリサイド - Language
- Japanese
- ISSN
- 2436-7613