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1 . Academic Journal
19aRA-9 同軸型プラズマオープニングスイッチにおけるプラズマの挙動観測 / Obsrvation of plasma motion in a coaxial plasma opening switch
저자
by
Hidenori Akiyama
;
Hideyuki Urakami
;
Sunao Katsuki
;
Susumu Kohno
;
Yusuke Teramoto
, et al.
소스
Meeting Abstracts of the Physical Society of Japan. 2001, :147
Open Access (JSTAGE)
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RefWorks
7 . Academic Journal
24aYG-1 Plasma density measurement in a plasma opening switch / 24aYG-1 プラズマオープニングスイッチ動作時のプラズマ密度計測
저자
by
Hidenori Akiyama
;
Igor Lisitsyn
;
Lisitsyn Igor
;
Sunao Katsuki
;
Susumu Kohno
, et al.
소스
Meeting Abstracts of the Physical Society of Japan. 1999, :136
Open Access (JSTAGE)
Find it @ DONGA
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RefWorks
7 .
Improvement of LDP EUV source performance for actinic patterned mask inspection
저자
by
Safak Sayan
;
Kishore K. Chakravorty
;
Yusuke Teramoto
;
Bárbara Santos
;
Akihisa Nagano
, et al.
소스
Optical and EUV Nanolithography XXXVI
.
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RefWorks
7 .
High-brightness LDP source for EUVL mask inspection
저자
by
Ryuta Furuya
;
Kazuya Aoki
;
Yusuke Teramoto
;
Takahiro Shirai
;
Shunichi Morimoto
, et al.
소스
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2022
.
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RefWorks
7 .
High-brightness LDP source for EUVL mask inspection
저자
by
Kazuya Aoki
;
Yoshihiko Sato
;
Yusuke Teramoto
;
Takahiro Shirai
;
Shunichi Morimoto
, et al.
소스
Photomask Japan 2022: XXVIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology
.
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RefWorks
7 . Academic Journal
Ptychographic imaging with partially coherent plasma EUV sources.
저자
by
Bußmann, Jan
;
Odstrčil, Michal
;
Yusuke Teramoto
;
Juschkin, Larissa
.
소스
Advanced Optical Technologies; Dec2017, Vol. 6 Issue 6, p459-466, 8p
Full Text(De Gruyter)
JCR 저널정보
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RefWorks
6 .
High-brightness LDP EUV source for EUV mask inspection
저자
by
Daisuke Yajima
;
Takahiro Shirai
;
Hironobu Yabuya
;
Shunichi Morimoto
;
Hidenori Watanabe
, et al.
소스
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2021
.
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RefWorks
7 .
High-brightness LDP source for EUVL mask inspection
저자
by
Takahiro Shirai
;
Yoshihiko Sato
;
Yusuke Teramoto
;
Hidenori Watanabe
;
Shunichi Morimoto
, et al.
소스
Photomask Japan 2021: XXVII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology
.
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RefWorks
7 .
Laser-assisted discharge produced plasma (LDP) EUV source for actinic patterned mask inspection (APMI)
저자
by
Yusuke Teramoto
;
Frank E. Abboud
;
Firoz Ghadiali
;
Hidenori Watanabe
;
Takahiro Shirai
, et al.
소스
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XII
.
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RefWorks
7 .
High-Brightness LDP Source for Mask Inspection
저자
by
Yusuke Teramoto
.
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