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1 . Conference
PHOTOCHEMICAL BEHAVIOR OF POLYMERS BEARING ACYLOXYIMINO GROUPS
FORMATION OF AMINO GROUPS AND APPLICATIONS
저자
by
송경헌
;
Masahiro Tsunooka
;
Makoto Tanaka
.
소스
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
. 1989-10 1989(10):21-22
Full Text (DBPIA)
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RefWorks
5 . Academic Journal
プラスチック副資材の理論と実際(7) -抗酸化剤(酸化防止剤)・紫外線吸収剤-
저자
by
Masahiro Tsunooka
;
角岡 正弘
.
소스
成形加工 / Seikei-Kakou. 1999, 11(3):178
Open Access (JSTAGE)
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RefWorks
4 . Academic Journal
Synthesis of Multi-functional Photobase Generators and Their Application to Photo-Curing Systems / 多官能光塩基発生剤の合成と光硬化系への応用
저자
by
Daisuke NAKAI
;
Kanji SUYAMA
;
Masahiro TSUNOOKA
;
Masamitsu SHIRAI
;
Tadahiro OHBA
, et al.
소스
Polymer Preprints, Japan. 2004, :315
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RefWorks
7 . Academic Journal
Visible Light Sensitization of Polymers Bearing Photobase Generating Groups / 光塩基発生基を側鎖に有する高分子の可視光増感挙動
저자
by
Kanji SUYAMA
;
Masahiro TSUNOOKA
;
Masamitsu SHIRAI
;
Tadahiro OHBA
;
大場 忠裕
, et al.
소스
Polymer Preprints, Japan. 2003, :1966
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RefWorks
7 . Academic Journal
Visible Light-Initiated Cationic Polymerization Sensitized by Quinone Derivatives / キノン誘導体を増感剤とした可視光開始カチオン重合
저자
by
Kanji SUYAMA
;
Masahiro TSUNOOKA
;
Masamitsu SHIRAI
;
Weihong QU
;
曲 偉宏
, et al.
소스
Polymer Preprints, Japan. 2003, :804
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RefWorks
7 . Academic Journal
F2 resist based on Methacrylonitrile-Containing Polymers / メタクリロニトリルをベースとするF2レジスト
저자
by
Haruyuki OKAMURA
;
Masahiro TSUNOOKA
;
Masamitsu SHIRAI
;
Shinichi TAKASHIBA
;
岡村 晴之
, et al.
소스
Polymer Preprints, Japan. 2003, :496
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RefWorks
7 . Academic Journal
366nm 光を用いたエポキシフルオレン/ポリシランブレンド系の光架橋 / Photocrosslinking System Based on Epoxyfluorene / Polysilane Blends Using 366 nm Light
저자
by
Haruyuki OKAMURA
;
Koichi SAKAI
;
Masahiro TSUNOOKA
;
Masamitsu SHIRAI
;
Mitsuaki Yamada
, et al.
소스
Polymer Preprints, Japan. 2003, :499
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RefWorks
7 . Academic Journal
Application of Dry Developing Resist to DVD Stamper / ドライ現像レジストのDVDスタンパーへの応用
저자
by
Masahiro TSUNOOKA
;
Masamitsu SHIRAI
;
Takeharu NAKAMURA
;
中村 武晴
;
白井 正充
, et al.
소스
Polymer Preprints, Japan. 2003, :497
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7 . Academic Journal
Photocrosslinking of Novel Epoxy Polymers Containing Sulfonate Groups and Their Redissolution in Water / 新規スルホン酸エステル基を含有するエポキシポリマーの光架橋と水への再溶解
저자
by
Akiya KAWAUE
;
Haruyuki OKAMURA
;
Masahiro TSUNOOKA
;
Masamitsu SHIRAI
;
岡村 晴之
, et al.
소스
Polymer Preprints, Japan. 2003, :469
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RefWorks
7 . Academic Journal
VUV Photolysis and Deblocking Reaction of Resist Polymers / レジストポリマーの真空紫外光分解と脱保護反応
저자
by
Masahiro Tsunooka
;
Masamitsu Shirai
;
Toshiro Itani
;
Toyofumi Shinozuka
;
井谷 敏郎
, et al.
소스
Polymer Preprints, Japan. 2002, :605
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