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1 . Academic Journal
EUV Metal Oxide Resist Development Technology for Improved Sensitivity, Roughness and Pattern Collapse Margin for High Volume Manufacturing
저자
by
Alexandra Krawicz
;
Angélique Raley
;
Arnaud Dauendorffer
;
Cong Que Dinh
;
Danilo De Simone
, et al.
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Journal of Photopolymer Science and Technology. 2022, 35(1):87
Open Access (JSTAGE)
Web of Science
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7 .
EUV Metal Oxide Resist Development Technology for Improved Sensitivity, Roughness and Pattern Collapse Margin for High Volume Manufacturing
저자
by
Cong Que Dinh
;
Seiji Nagahara
;
Yuhei Kuwahara
;
Arnaud Dauendorffer
;
Keisuke Yoshida
, et al.
소스
Journal of Photopolymer Science and Technology
. 35:87-93
Web of Science
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7 .
Establishment of new process technology for EUV lithography
저자
by
Yuhei Kuwahara
;
Shinichiro Kawakami
;
Kanzo Kato
;
Soichiro Okada
;
Yuya Kamei
, et al.
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Advances in Patterning Materials and Processes XL
.
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7 .
Coater/developer-based techniques to achieve tight pitches towards high-NA EUV
저자
by
Kanzo Kato
;
Lior Huli
;
Nathan Antonovich
;
David Hetzer
;
Steven Grzeskowiak
, et al.
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Advances in Patterning Materials and Processes XL
.
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RefWorks
7 .
Advanced development methods for high-NA EUV lithography
저자
by
Cong Que Dinh
;
Seiji Nagahara
;
Yuhei Kuwahara
;
Arnaud Dauendorffer
;
Soichiro Okada
, et al.
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Advances in Patterning Materials and Processes XL
.
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RefWorks
7 .
Holistic litho-etch development to address patterning challenges towards high NA EUV
저자
by
Seiji Nagahara
;
Arnaud Dauendorffer
;
Xiang Liu
;
Tomoya Onitsuka
;
Hisashi Genjima
, et al.
소스
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2022
.
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RefWorks
7 .
Coater/developer-based techniques to improve high-resolution EUV patterning
저자
by
Kanzo Kato
;
Lior Huli
;
David Hetzer
;
Steven Grzeskowiak
;
Alexandra Krawicz
, et al.
소스
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2022
.
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RefWorks
7 .
Coater/developer based techniques to achieve sub-30nm CAR process on EUV stack
저자
by
Kanzo Kato
;
Lior Huli
;
Dave Hetzer
;
Satoru Shimura
;
Shinichiro Kawakami
, et al.
소스
Advances in Patterning Materials and Processes XXXIX
.
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RefWorks
7 .
Outlook for high-NA EUV patterning: a holistic patterning approach to address upcoming challenges
저자
by
Angélique Raley
;
Lior Huli
;
Steven Grzeskowiak
;
Katie Lutker-Lee
;
Alexandra Krawicz
, et al.
소스
Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XI
.
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RefWorks
7 .
Coater/developer and new underlayer application to sub-30nm process
저자
by
Dave Hetzer
;
Alexandra Krawicz
;
Luciana Meli
;
Alex Hubbard
;
Cody Murray
, et al.
소스
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2021
.
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