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1 . Academic Journal
Single Exposure Imaging of Talbot Carpets and Resolution Characterization of Detectors for Micro- and Nano- Patterns
저자
by
Hyun-su Kim
;
Serhiy Danylyuk
;
William S. Brocklesby
;
Larissa Juschkin
.
소스
Current Optics and Photonics
. 2016-04 20(2):245-250
Full Text (DBPIA)
Web of Science
KCI 등재 저널
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RefWorks
6 . Academic Journal
Single Exposure Imaging of Talbot Carpets and Resolution Characterization of Detectors for Micro- and Nano- Patterns
저자
by
김현수
;
Serhiy Danylyuk
;
William S. Brocklesby
;
Larissa Juschkin
.
소스
Current Optics and Photonics, 20(2), pp.245-250 Apr, 2016
Full Text (DBPIA)
Web of Science
KCI 등재 저널
JCR 저널정보
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RefWorks
6 . Academic Journal
Restorative Self-Image of Rough-Line Grids: Application to Coherent EUV Talbot Lithography
저자
by
Hyun-su Kim
;
Wei Li
;
Mario C. Marconi
;
William S. Brocklesby
;
Larissa Juschkin
.
소스
IEEE Photonics Journal, Vol 8, Iss 3, Pp 1-9 (2016)
Open Access (DOAJ)
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Web of Science
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7 . Academic Journal
On space charge effects in laboratory-based photoemission electron microscopy using compact gas discharge extreme ultraviolet sources
저자
by
Daniel Wilson
;
Christoph Schmitz
;
Denis Rudolf
;
Carsten Wiemann
;
Claus M Schneider
, et al.
소스
New Journal of Physics, Vol 22, Iss 10, p 103019 (2020)
Full Text (IOP)
Open Access (DOAJ)
Open Access (IOP)
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Web of Science
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RefWorks
7 .
Characterisation of engineered defects in extreme ultraviolet mirror substrates using lab-scale extreme ultraviolet reflection ptychography
저자
by
Haoyan Lu
;
Michal Odstrčil
;
Charles Pooley
;
Jan Biller
;
Mikheil Mebonia
, et al.
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Open Access (OpenAIRE)
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RefWorks
7 .
Self-consistent integrated modeling of combined hybrid discharge-laser produced plasma devices for extreme ultraviolet metrology
저자
by
Valeryi Sizyuk
;
Ahmed Hassanein
;
Florian Melsheimer
;
Larissa Juschkin
;
Tatyana Sizyuk
.
소스
Physics of Plasmas
. 30
Full Text (AIP)
Scopus
JCR 저널정보
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RefWorks
7 .
Integrated simulations of hybrid discharge-laser produced plasma devices for EUV metrology
저자
by
Valeryi A. Sizyuk
;
Ahmed Hassanein
;
Florian Melsheimer
;
Larissa Juschkin
;
Tatyana Sizyuk
.
소스
Optical and EUV Nanolithography XXXV
.
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RefWorks
7 .
Source performance metrics for EUV mask inspection
저자
by
Larissa Juschkin
;
Daniel Wack
.
소스
Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology
. 21
Open Access (OpenAIRE)
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RefWorks
4 .
Broadband scatterometry at extreme ultraviolet wavelengths for nanograting characterization
저자
by
Sven Glabisch
;
Larissa Juschkin
;
Sophia Schroeder
;
Peter Loosen
;
Sascha Brose
, et al.
소스
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV
.
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RefWorks
7 .
Quantitative characterization of absorber and phase defects on EUV reticles using coherent diffraction imaging
저자
by
Yasin Ekinci
;
Serhiy Danylyuk
;
Atoosa Dejkameh
;
Uldis Locans
;
Li-Ting Tseng
, et al.
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