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1 . Academic Journal
掩模材料与新颖的衬底方案关键问题及新的良机 / Mask Materials and Novel Blanks -Solutions, Critical Issues and New Opportunities
저자
by
Ute Buttgereit
;
Holger Seitz
;
Guenter Hess
;
Patrick M. Martin
.
소스
电子工业专用设备 / EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
. 35(4):23-30
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6 .
Was heißt es, wach zu sein?
저자
by
Holger Seitz
.
소스
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3 .
Current status of the thermo-catalytic (hot-wire) CVD of thin silicon films for photovoltaic applications
저자
by
Holger Seitz
;
Andrea Ledermann
;
Chandrachur Mukherjee
;
Urban Weber
;
B. Schroeder
.
소스
Thin Solid Films
. 395:298-304
Web of Science
Scopus
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RefWorks
7 .
Binding of human lipoproteins (low, very low, high density lipoproteins) to recombinant envelope proteins of hepatitis C virus
저자
by
Masyar Monazahian
;
Serena Kippenberger
;
Ingo Böhme
;
Holger Seitz
;
Reiner Thomssen
, et al.
소스
Medical Microbiology and Immunology
. 188:177-184
Full Text (Springer)
Web of Science
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7 .
AIMS mask qualification for 32nm node
저자
by
Rigo Richter
;
Ulrich Stroessner
;
Thomas Thaler
;
Holger Seitz
;
Thomas Scheruebl
.
소스
SPIE Proceedings
.
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7 .
WLCD: a new system for wafer level CD metrology on photomasks
저자
by
Wolfgang Degel
;
Ute Buttgereit
;
Sven Martin
;
Thomas Scherübl
;
Holger Seitz
.
소스
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXIII
.
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RefWorks
7 .
AIMS and resist simulation
저자
by
Thomas Scherübl
;
Rigo Richter
;
Holger Seitz
;
Ulrich Dr. Strößner
;
Robert Birkner
.
소스
Photomask Technology 2008
.
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RefWorks
7 .
Wafer level CD metrology on photomasks using aerial imaging technology
저자
by
Ulrich Dr. Strößner
;
Robert Birkner
;
Rigo Richter
;
Thomas Scherübl
;
Holger Seitz
.
소스
SPIE Proceedings
.
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RefWorks
7 .
Dry etch behavior of different TaN absorber layers for EUVL mask making
저자
by
Günther Hess
;
Konrad Knapp
;
Florian Letzkus
;
Mathias Irmscher
;
Markus Renno
, et al.
소스
SPIE Proceedings
.
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RefWorks
7 .
The first full-field EUV masks ready for printing
저자
by
Günter Hess
;
Jan Hendrik Peters
;
Uwe Dersch
;
Marcel Demarteau
;
Holger Seitz
, et al.
소스
22nd European Mask and Lithography Conference
.
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