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1 . Conference
193-nm positive-tone bilayer resist based on norbornene-maleic anhydride copolymers.
저자
by
Sooriyakumaran, Ratnam
;
Fenzel-Alexander, Debra
;
Brock, Phillip J.
;
Larson, Carl E.
;
Di Pietro, Richard A.
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov2000 Part 2, Issue 1, p1171-1180, 10p
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RefWorks
7 . Conference
Dissolution/swelling behavior of cycloolefin polymers in aqueous base.
저자
by
Ito, Hiroshi
;
Allen, Robert D.
;
Opitz, Juliann
;
Wallow, Thomas I.
;
Truong, Hoa D.
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov2000, Issue 1, p2-12, 11p
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RefWorks
7 . Conference
Molecular weight tailoring in methacrylate 193-nm photoresists.
저자
by
Wallow, Thomas I.
;
Brock, Phillip J.
;
Truong, Hoa D.
;
Allen, Robert D.
;
Opitz, Juliann
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov1999, Issue 1, p1106-1113, 8p
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RefWorks
7 . Conference
Polymer-platform-dependent characteristics of 193-nm photoresists.
저자
by
Opitz, Juliann
;
Allen, Robert D.
;
Breyta, Gregory
;
Hofer, Donald C.
;
Sundararajan, Narayan
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov1999, Issue 1, p1096-1105, 10p
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RefWorks
7 . Conference
Development of an incremental structural parameter model for predicting reactive ion etch rates of 193-nm photoresist polymer platforms.
저자
by
Wallow, Thomas I.
;
Brock, Phillip J.
;
Di Pietro, Richard A.
;
Allen, Robert D.
;
Opitz, Juliann
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov1999, Issue 1, p26-35, 10p
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RefWorks
7 . Conference
High-resolution 248-nm bilayer resist.
저자
by
Lin, Qinghuang
;
Petrillo, Karen E.
;
Babich, Katherina
;
LaTulipe, Douglas C.
;
Medeiros, David R.
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov1999, Issue 1, p241-250, 10p
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RefWorks
7 . Conference
Design and development of high-performance 193-nm positive resist based on functionalized poly(cyclicolefins).
저자
by
Varanasi, Pushkara R.
;
Maniscalco, J.
;
Mewherter, Ann M.
;
Lawson, Margaret C.
;
Jordhamo, George M.
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov1999, Issue 1, p51-63, 13p
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RefWorks
7 . Conference
Approaches to etch-resistant 193-nm photoresists: performance and prospects.
저자
by
Allen, Robert D.
;
Opitz, Juliann
;
Ito, Hiroshi
;
Wallow, Thomas I.
;
Casmier, Daniel V.
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov1999, Issue 1, p66-77, 12p
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7 . Conference
Positive bilayer resists for 248- and 193-nm lithography.
저자
by
Sooriyakumaran, Ratnam
;
Wallraff, Gregory M.
;
Larson, Carl E.
;
Fenzel-Alexander, Debra
;
Di Pietro, Richard A.
, et al.
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Proceedings of SPIE; Nov1998 Part 2, Issue 1, p219-227, 9p
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7 . Conference
Extension of 248-nm optical lithography: a thin film imaging approach.
저자
by
Lin, Qinghuang
;
Katnani, Ahmad D.
;
Brunner, Timothy A.
;
DeWan, Charlotte
;
Fairchok, Cindy
, et al.
소스
Proceedings of SPIE; Nov1998 Part 2, Issue 1, p278-288, 11p
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