Atomic Layer Etching of TiN Using Formation and Desorption of Modified Layer / 表面反応層の生成と熱脱離を用いたTiNの原子層レベルエッチング
- Resource Type
- Journal Article
- Source
- JSAP Annual Meetings Extended Abstracts. 2016, :1694
- Subject
13a-B9-11 Si・金属のエッチング atomic layer etching titanium nitride エッチング プラズマエッチング プラズマエレクトロニクス 原子層 窒化チタン - Language
- Japanese
- ISSN
- 2436-7613