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요약정보
P型阶梯掺杂4H-SiC多层薄膜同质外延 生长研究 / Homoepitaxial Growth of 4H-SiC Multilayer Films With Stepped Doping of P-type
Resource Type
Academic Journal
Authors
刘兴昉
;
闫果果
;
桑玲
;
郑柳
;
钮应喜
;
王嘉铭
;
张峰
;
杨霏
;
杨香
;
樊中朝
;
孙国胜
;
曾一平
;
温家良
;
何志
;
LIU Xingfang
;
YAN Guoguo
;
SANG Ling
;
ZHENG Liu
;
NIU Yingxi
;
WANG Jiaming
;
ZHANG Feng
;
YANG Fei
;
YANG Xiang
;
FAN Zhongchao
;
SUN Guosheng
;
ZENG Yiping
;
WEN Jialiang
;
HE Zhi
Source
智能电网 / Smart Grid
. 5(8):752-756
Subject
碳化硅
高压器件
外延
阱区
智能电网
Language
Chinese
ISSN
2095-5944
Online Access
Find it @ DONGA
초록
基于碳化硅半导体的高压电力电子器件如MOSFET、IGBT等有望用于智能电网系统中.这些器件的基本结构包含PN结及其变体,其特点是包括N-漂移层、P阱区及位于其中的N+和P+并列阱区,形成了P+(N+)/P/N-结构.一般采用高温高能离子注入的方式制备此结构,具有较高的难度.本文采用外延生长的方法实现P+/P/N-同质多层结构,以P型阶梯掺杂的方式实现了一种4H-SiC多层薄膜同质外延材料.与注入方法相比,本方法在阱区几何尺寸、掺杂精度上具有优势,可望用于今后制备性能更优的同类高压器件.
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